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2024-2030年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告
2024-2030年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告
塑料
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2024-2030年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告

2019-2025年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告 正文目录: 第1章半导体、光伏产业用高纯硅烷概述16 1.1高纯硅烷简介16 1.2高纯硅烷的主要基本性能与质量指标17 1.3高纯硅烷的主要应用领域18 1.4高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用19 第2章电子特种气体及其...

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报告简介
2019-2025年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告 正文目录: 第1章半导体、光伏产业用高纯硅烷概述16 1.1高纯硅烷简介16 1.2高纯硅烷的主要基本性能与质量指标17 1.3高纯硅烷的主要应用领域18 1.4高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用19 第2章电子特种气体及其
报告目录

 

2024-2030年中国高纯硅烷行业分析及发展趋势研究报告

正文目录:

第1章半导体、光伏产业用高纯硅烷概述16
1.1高纯硅烷简介16
1.2高纯硅烷的主要基本性能与质量指标17
1.3高纯硅烷的主要应用领域18
1.4高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用19

第2章电子特种气体及其应用市场20
2.1电子特种气体概述20
2.2电子特种气体制造中的主要技术方面21
2.3电子特种气体的度要求23
2.4电子特种气体产品市场竞争的焦点问题25
2.4.1对电子特种气体杂质、纯度要求的问题25
2.4.2气体配送及供应问题26
2.4.3储存、使用中的安全性问题27
2.4.4成本性问题28
2.5国内外电子特种气体行业发展概述29
2.5.1境外电子特种气体生产与市场情况29
2.5.2国内电子特种气体行业及其发展30

第3章高纯硅烷气体性能指标及制备、净化的工艺线33
3.1高纯硅烷的性能指标33
3.2高纯硅烷工业化制备的典型工艺线34
3.2.1制备工艺法概述34
3.2.2硅化镁合金法制备硅烷34
3.2.2.1工艺过程34
3.2.2.2主要反应36
3.2.2.3工艺特点36
3.2.2.4工艺法存在的问题37
3.2.3三氯氢硅还原法制备硅烷37
3.2.3.1工艺过程37
3.2.3.2主要反应39
3.2.3.3工艺特点39
3.2.3.4工艺法存在的问题40
3.2.4四氟化硅还原法制备硅烷41
3.2.4.1工艺过程41
3.2.4.2主要反应41
3.2.4.3工艺特点41
3.2.4.4工艺法存在的问题42
3.2.5氯硅烷歧化法制备硅烷42
3.2.5.1工艺过程42
3.2.5.2主要反应42
3.2.5.3工艺特点42
3.2.5.4工艺法存在的问题43
3.2.6烷氧基硅烷歧化法43
3.2.6.1工艺过程43
3.2.6.2主要反应44
3.2.6.3工艺特点44
3.2.6.4工艺法存在的问题44
3.3高纯硅烷气体的净化工艺线45
3.3.1气体的净化方法概述45
3.3.2高纯硅烷的净化过程45
3.4工业高纯硅烷气体的包装及贮运46

第4章国内外高纯硅烷生产与主要企业现况47
4.1世界高纯硅烷产销、市场规模的概况47
4.2国外高纯硅烷主要生产企业产销情况47
4.3国外高纯硅烷主要生产企业简况48
4.3.1RECSilicon公司48
4.3.2Dowcorning公司51
4.3.3SODIFF新素材有限公司54
4.3.4MEMC公司57
4.3.5AirLiquid公司60
4.3.6日本电气工业公司64
4.3.7大阳日酸公司67
4.3.8EvonikIndustries公司70
4.4国内硅烷业的发展概述72
4.4.1我国高纯硅烷业发展的概述72
4.4.2我国硅烷研发、生产的历史74
4.5国内高纯硅烷生产企业现况75
4.5.1国内高纯硅烷生产企业总述75
4.5.2浙江中宁硅业有限公司75
4.5.3浙江赛林硅业有限公司81
4.5.4滁州市硅谷特种气体有限公司88
4.5.5六九硅业有限公司95
4.5.6浙江金华美晶硅电子有限公司102
4.5.7金业电子气体股份有限公司108
4.5.8深圳市金业长健新材料股份有限公司115

第5章高纯硅烷主要应用领域的概述122
5.1高纯硅烷在集成电中的应用122
5.1.1集成电芯片制程122
5.1.2化学气相沉积和气体应用122
5.1.3高纯硅烷在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜131
5.2高纯硅烷在薄膜硅太阳电池中的应用132
5.2.1非晶硅薄膜太阳能电池132
5.2.2Si薄膜的材料特性132
5.2.3非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用136
5.3高纯硅烷在液晶显示器中的应用138
5.3高纯硅烷在液晶显示器中的应用139
5.4高纯硅烷在其它领域的应用139
5.4.1在特种玻璃制造中的应用139
5.4.2在电子部件制造中的应用140
5.4.3在化合物半导体材料制造中的应用140
5.5高纯硅烷在电子信息产品中应用市场需求量的测算141

第6章高纯硅烷主要应用市场之一—集成电产业的现况与趋势143
6.1世界半导体硅片生产与市场发展143
6.1.1世界半导体生产的现况143
6.1.2世界半导体硅片的生产状况145
6.2我国半导体晶圆生产与市场现况与发展145
6.2.1我国集成电市场、产业发展现状145
6.2.2我国集成电晶圆制造业情况153

第7章高纯硅烷主要应用市场之二—薄膜太阳能电池产业的现况与趋势154
7.1国内外光伏产业的发展154
7.1.1世界光伏产业的快速发展154
7.1.2我国光伏产业发展与现况155
7.2薄膜太阳能电池的生产与市场163
7.2.1薄膜太阳能电池特点及品种163
7.2.2薄膜太阳能电池未来市场发展前景171
7.2.3薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化174
7.3国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业175

第8章 高纯硅烷主要应用市场之三—液晶显示器产业的现况与趋势180
8.1世界平板显示器产业发展现况180
8.2我国平板显示器产业现况与未来发展预测181
8.2.1我国液晶显示产业发展概述181
8.2.2我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测183
8.2.3我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析185

图表目录
图表1硅烷性能比较18
图表2气体按其特性分类图21
图表3杂质对硅低温选择性外延沉积的影响24
图表4露-点与集成度的关系25
图表5微粒直径与集成度的关系25
图表6特殊气体供应流程图27
图表7硅烷的性能指标33
图表8氢化锂还原三氯氢硅制备硅烷工艺流程图38
图表9:2015-2024年世界高纯硅烷产销分析47
图表10:2015-2024年世界高纯硅烷市场规模分析47
图表112016-2024年国外高纯硅烷主要生产企业产销情况47
图表12近4年RECSilicon公司流动资产周转次数变化情况48
图表13近4年RECSilicon公司总资产周转次数变化情况49
图表14近4年RECSilicon公司销售毛利率变化情况49
图表15近4年RECSilicon公司资产负债率变化情况49
图表16近4年RECSilicon公司产权比率变化情况50
图表17近4年RECSilicon公司固定资产周转次数情况50
图表18近4年Dowcorning公司流动资产周转次数变化情况52
图表19近4年Dowcorning公司总资产周转次数变化情况52
图表20近4年Dowcorning公司销售毛利率变化情况52
图表21近4年Dowcorning公司资产负债率变化情况53
图表22近4年Dowcorning公司产权比率变化情况53
图表23近4年Dowcorning公司固定资产周转次数情况54
图表24近4年SODIFF新素材有限公司流动资产周转次数变化情况55
图表25近4年SODIFF新素材有限公司总资产周转次数变化情况55
图表26近4年SODIFF新素材有限公司销售毛利率变化情况55
图表27近4年SODIFF新素材有限公司资产负债率变化情况56
图表28近4年SODIFF新素材有限公司产权比率变化情况56
图表29近4年SODIFF新素材有限公司固定资产周转次数情况57
图表30近4年MEMC公司流动资产周转次数变化情况58
图表31近4年MEMC公司总资产周转次数变化情况58
图表32近4年MEMC公司销售毛利率变化情况59
图表33近4年MEMC公司资产负债率变化情况59
图表34近4年MEMC公司产权比率变化情况59
图表35近4年MEMC公司固定资产周转次数情况60
图表36近4年AirLiquid公司流动资产周转次数变化情况61
图表37近4年AirLiquid公司总资产周转次数变化情况62
图表38近4年AirLiquid公司销售毛利率变化情况62
图表39近4年AirLiquid公司资产负债率变化情况63
图表40近4年AirLiquid公司产权比率变化情况63
图表41近4年AirLiquid公司固定资产周转次数情况63
图表42近4年日本电气工业公司流动资产周转次数变化情况64
图表43近4年日本电气工业公司总资产周转次数变化情况65
图表44近4年日本电气工业公司销售毛利率变化情况65
图表45近4年日本电气工业公司资产负债率变化情况65
图表46近4年日本电气工业公司产权比率变化情况66
图表47近4年日本电气工业公司固定资产周转次数情况66
图表48近4年大阳日酸公司流动资产周转次数变化情况67
图表49近4年大阳日酸公司总资产周转次数变化情况67
图表50近4年大阳日酸公司销售毛利率变化情况68

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